超级掺杂硅的制备系统

发布者:张燕发布时间:2023-10-31浏览次数:10


仪器中文名称

超级掺杂硅的制备系统


仪器英文名称

Preparation system for hyperdoping silicon

规格型号

自行研制

生产厂商

上海波铭

仪器产地

上海波铭

仪器原值

195万元

启用日期

2022

使用方式

预约

运行状态

正常

应用领域

材料,物理,半导体等

所在单位

杭州国际科创中心

安放地点

9160

仪器负责人

皮孝东

联系电话与e-mail

xdpi@zju.edu.cn

仪器主要用途

基于气体激光浸没式掺杂的原理,实现对硅或绝缘体上硅晶圆的p型和n型超级掺杂,提高掺杂效率和掺杂过程的可控性。

主要技术指标

325 nm激光器:波长325 nm,功率35 mW;

1030 nm激光器:波长1030 nm,重复频率 100 KHz1 MHz

三维电动位移台:分辨率 0.1微米,定位精度 1微米。

主要附件

 325 nm激光器,1030 nm激光器,二三倍频组件,三维电动位移台,紫外观察相机,探针台,暗箱及光路。

功能特色

制备出来的超级掺杂硅材料有望产生一些特殊的光电性质,如表面等离激元等,加速硅材料在中红外光电探测器、光电神经突触器件等领域的研发进程。

样品要求

固态样品。

收费标准

校内价格:200/小时;

校外价格:400/小时。