高真空热压烧结炉

发布者:系统管理员发布时间:2013-05-30浏览次数:5155

仪器中文名称: 高真空热压烧结炉
仪器英文名称:High-vacuum hot pressing sintering furnace
规格型号: HP-5x7-GG-1900-VM-G-15T产地: 美国
生产厂商: Materials Research Furnaces, Inc仪器原值: 1739500.00
应用领域: 材料学使用方式: 对外开放
运行状态: 正常收费标准: 校内800元/小时
所在单位: 硅材料国家重点实验室仪器负责人: 朱铁军
安放地点: 玉泉校区第一教学大楼119联系电话: 0571-87952181
启用日期: 2012-09-01Email: zhutj@zju.edu.cn

设备信息


仪器主要用途
  • 多种气氛下热压或无压烧结;

  • 热处理;

  • 材料致密化处理;

  • 材料熔炼;

  • 材料热变形。

主要技术指标
  • 使用温度范围:25 ~2200 ℃,温度稳定性在±10 ℃,

  • 使用压力范围:0.04 kN~222.0 kN,分辨率:0.01 kN

  • 行程位移范围:0.0 mm~101.6 mm,分辨率为0.1 mm

  • 炉室压力范围:10-2 torr~862 torr

主要附件
  • 机械真空泵,含防尘过滤器

  • 水冷冷水机组

功能特色
  • 多种气氛烧结

  • 低高温选用不同传感器测温,实现热偶、高温计测温自动转换

  • 可在高温(2200 ℃)高压(222.0 kN)下应用

样品要求
细小均匀的粉末颗粒