2011年3月15日,王东博士受邀给浙江大学硅材料重点实验室的同学们带来了一场精彩的学术报告。
王冬博士现为日本九州大学产学合作中心的特任准教授、学术研究员。报告内容围绕王东博士近年来所做的相关工作的成果和进展,主要包括:strained Si,SiGe(Ge)on insulator,locally strained Si films 和GOI-MOSFET engineering等,王冬博士以他严谨的科研态度和独特的学术视角博得了同学们的阵阵掌声。报告中有多位同学向他提问,在报告后,同学们更是热情地留住王冬教授,向他请教科研中所遇到的相关领域的问题。面对同学们的热情请教,王冬博士都非常耐心地为他们讲解,并对同学们的的工作提出了宝贵的意见,使同学们受益颇多。
硅材料国家重点实验室
2011年3月15日