4月13日至14日，第二届全国半导体缺陷研讨会在绍兴市上虞区成功召开。本次大会由浙江大学硅及先进半导体材料全国重点实验室、中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、北京大学、苏州实验室、浙江大学上虞半导体材料研究中心、厦门大学、南昌大学、北京计算科学研究中心、中国科学院半导体研究所、浙江大学杭州国际科创中心等10家单位主办，并得到绍兴市上虞区领导的关心和支持。
浙江大学杨德仁院士、南昌大学江风益院士、北京大学沈波教授、国家第三代半导体专家指导委员会徐禄平副主任、北京计算科学中心魏苏淮研究员、中科院苏州纳米所徐科研究员、厦门大学康俊勇教授，和来自58家高校、院所和企业共220余位专家学者和企业家代表参加本届研讨会，围绕半导体材料生长与缺陷调控、缺陷的理论与计算方法、缺陷的表征分析和装备技术等主题展开了深入探讨和交流。
江风益院士在开幕式致辞中对所有参与和支持会议的单位表达了感谢。江院士表示，半导体缺陷不可避免，要一分为二地看待缺陷问题，充分控制甚至利用缺陷提高器件性能。在半导体技术发展过程中，要深刻地理解科学发现与技术方面之间的辩证关系，坚持以逆向性思维、重复性实验为导向做好基础研究。在本届研讨会上，希望各位材料领域的专家学者能够共享成果、充分讨论，为我国半导体领域的技术发展贡献出更多的智慧和力量。
本届会议在绍兴上虞召开，也得到了绍兴市上虞区领导的热情关心和支持。绍兴市人民政府副市长、上虞区委书记鲁霞光在开幕致辞中指出，半导体产业是战略性、基础性、先导性产业，是“新质生产力”的典型代表。当前，绍兴已成为环杭州湾地区集成电路产业高地，上虞也正依托国内顶尖高校资源和龙头企业，积极培育发展半导体产业。此次研讨会在上虞召开，必将为绍兴和上虞发展壮大半导体产业、重构以新质生产力为核心的现代化产业体系提供强劲动力。上虞区人民政府副区长阮程华、上虞区相关部门、镇街、平台负责人和在虞半导体产业企业负责人也列席参加本次会议。
经组委会讨论，本届研讨会共推选出32个学术报告，其中主旨报告3个，反映了目前国内在半导体缺陷方面学术和产业最新的研究进展和成果，促进产学研的相互合作和交流。
在当前我国高端半导体材料和器件制造的关键技术方面遭受“卡脖子”难题的情况下，研讨会的召开为半导体材料和半导体器件的性能提升构建更加广泛的合作空间和更加科学、严谨的交流互动平台,为进一步加强高校、科研院所和企业之间的交流与合作提供助力,促进我国半导体产业的发展。
在第一届全国半导体缺陷研讨会成功举办的基础上，本次研讨会同样取得了令人瞩目的成绩。研讨会闭幕式上，主持人浙江大学硅及先进半导体材料全国重点实验室副主任余学功教授致闭幕词，并宣布第三届全国半导体缺陷研讨会将于2026年由厦门大学负责主办。
文章引自《公众号·上虞半导体材料研究中心》
